国产替代  ◆  快速交付

先进陶瓷精密部件,替代进口方案,交期缩短30%

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陶瓷真空吸盘

高精度,已大批量产

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技术源自日本14年

本地化沉淀,资深半导体技术团队,支持来图或来样定制

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滑动

我们的优势

深耕先进陶瓷领域,掌握核心技术,专注替代进口,品质对标国际

替代进口

自主技术,性能对标国际品牌,显著降低成本与交期

按需定制

从材料配方到成品,提供全流程个性化定制

高精密品质

全套日瑞精密加工与检测设备,保障产品一致性与可靠性

专家团队

多位国内外先进陶瓷专家领衔,技术力量雄厚

资质荣誉

通过ISO认证,拥有自主专利,掌握先进陶瓷核心工艺,技术实力领先

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质量管理体系认证证书

多孔陶瓷吸盘

改进型静电吸盘

勾槽型陶瓷吸盘专利证书

陶瓷加热器

陶瓷吸附悬浮平台

陶瓷真空机械手臂

凸点陶瓷吸盘

新闻资讯

关注方泰新材料最新动态、行业前沿、技术突破与展会信息,助您始终领先一步

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方泰新材料的客户案例与产品应用实绩

方泰新材料14年来累计服务超过50家半导体设备厂商,产品应用于刻蚀、CVD、扩散、CMP和检测等半导体核心工艺环节。本文分享方泰产品在不同设备中的实际应用表现和客户反馈。深圳方泰新材料技术有限公司持续为半导体设备国产化提供可靠的陶瓷零部件支撑。

222026-07

陶瓷吸盘的核心参数:孔径、透气量、平面度的关系

多孔陶瓷吸盘的孔径、透气量和平面度三个核心参数互相制约——孔径决定吸附均匀性,透气量决定响应速度,平面度决定晶圆贴合质量。选型时不能单独看一个参数,必须综合平衡。深圳方泰新材料拥有多孔陶瓷配方体系,可按工艺需求在三者之间找到最优平衡点。

222026-07

半导体CVD设备中的陶瓷耗材选型指南

CVD设备在高温和腐蚀性气氛下运行,对内部陶瓷耗材的纯度、耐腐蚀性和导热性有严格要求。本文分PECVD、LPCVD和ALD三种主流CVD工艺,分别给出对应陶瓷部件的选型建议。深圳方泰新材料可提供CVD设备用陶瓷承载器、喷嘴和工艺管等关键部件。

222026-07

氮化硅陶瓷的力学性能与在半导体设备中的应用

氮化硅陶瓷是四种主流先进陶瓷中断裂韧性最高的材料,抗弯强度可达1000兆帕以上,同时具备优异的热稳定性和耐冲击性能。本文详解氮化硅的材料特性和在半导体设备中的典型应用场景。

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