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碳化硅陶瓷:从粉体到精密零部件的全流程

  一块碳化硅陶瓷零件摆在眼前,表面光滑、棱角分明,看不出什么特别。但把它从原料到成品的过程走一遍,你就知道这玩意儿金贵在哪了。

  第一步是粉体。碳化硅粉体的纯度、粒度分布、晶型直接决定最终产品的性能。半导体级碳化硅零件用的粉体,纯度要求在99.9%以上,粒度分布要窄,大颗粒和小颗粒的比例得精确控制。粉体不行,后面再怎么努力也做不出好产品。

  粉体通过球磨、分级、清洗等工序处理到符合要求后,进入成型环节。碳化硅陶瓷的成型主要有三种方式:干压成型适合形状简单的零件,效率高成本低。等静压成型适合要求密度均匀的精密零件,是半导体级碳化硅的主要成型方式。凝胶注模成型可以做形状复杂的零件,比如气体喷淋头这种内部有精密气道的结构。

  成型后的毛坯进入烧结工序。碳化硅最难的地方就在这里——它的共价键极强,原子扩散困难,必须用很高的温度才能烧结致密。

碳化硅陶瓷从粉体到成品的全流程

碳化硅陶瓷从粉体到成品的全流程图

  目前主流路线有两条。

  反应烧结碳化硅是将碳化硅粉和碳粉混合成型后,在高温下让液态硅渗入坯体,硅和碳反应生成新的碳化硅填补孔隙。优势是烧结温度相对低(1600到1700度),成本可控,可以做大尺寸零件。缺点是最终产品中含有游离硅,耐腐蚀性略差。

  无压烧结碳化硅是不加任何助剂,在2000度以上的高温和惰性气氛中直接烧结。优势是产品纯度高、耐腐蚀性能极致,适合刻蚀机等严苛环境。缺点是成本高、大尺寸零件难做。

  问:反应烧结和无压烧结怎么选?

  答:看用在什么地方。刻蚀机里的聚焦环和气体喷淋头要求极致耐腐蚀,建议无压烧结。CVD设备的晶圆承载器对纯度和导热要求高,也建议无压烧结。泵阀密封件、耐磨衬板这些对成本敏感的零件,反应烧结就够用了。

  烧结出来的零件还粗得很,得经过精密加工。碳化硅的硬度仅次于金刚石,加工只能用金刚石刀具和砂轮。粗磨、精磨、研磨、抛光——每道工序都要严格控制切削参数,一不小心就是崩边或者微裂纹。

  加工完了还要检测。三坐标测量尺寸精度,粗糙度仪测表面质量,超声波探伤查内部缺陷,如果是多孔碳化硅还得测透气量。

  最后一步是清洗和包装。半导体级的零件对洁净度要求极高,必须在洁净车间里用超纯水超声波清洗,然后真空包装,防止运输过程中被污染。

  深圳方泰新材料技术有限公司具备反应烧结和无压烧结碳化硅的全流程生产能力,从粉体处理到精密加工到检测包装,所有工序内部完成,产品广泛应用于刻蚀机、CVD、扩散炉等半导体核心设备。

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