您好,欢迎光临深圳方泰新材料技术有限公司官网!

深圳方泰新材料技术有限公司

深圳方泰新材料技术有限公司

方圆有度 安若泰山-专注半导体先进陶瓷20年

全国咨询服务热线

0755-27826396

行业动态

热门关键词:精密陶瓷柱塞陶瓷吸盘多孔陶瓷吸盘碳化硅陶瓷吸盘陶瓷机械手臂陶瓷手指陶瓷吸附平台
联系方式
联系我们

联系人:Lily
电 话:0755-27826396
地 址:广东省深圳市宝安区新安街道海乐社区兴华一路北厂房3栋B4楼

半导体零部件之陶瓷件介绍

发布时间:2025-09-02 点击量:1071

一、半导体零部件陶瓷件介绍

陶瓷材料作为一类重要的复合材料体系,其典型组成包括氧化铝(Al₂O₃)、氮化硅(Si₃N₄)以及氧化锆(ZrO₂)等多种化合物构成的混合系统。通过严格的配方设计与组分调控,可实现材料性能参数的精确调控。

在半导体设备制造领域,这类材料主要应用于机械密封环(如碳化硅陶瓷)、绝缘支撑构件(如氮化铝陶瓷)以及耐磨衬套(如氧化锆陶瓷)等关键部件。值得注意的是,高端陶瓷材料的生产与质量控制必须严格遵循ASTM F2091等国际标准规范。


image.png


深圳方泰新材料技术有限公司,为半导体行业配套陶瓷吸盘、陶瓷手臂、陶瓷方梁、陶瓷导轨及各类半导体精密陶瓷部件等,受到用户的高度好评。

 

先进陶瓷严格要求

半导体设备制造领域,先进陶瓷零部件的产业化应用必须满足以下三个维度的严格要求:


1. 材料性能指标:必须全面满足半导体设备对材料机械强度、热学性能、介电特性、耐化学腐蚀性(包括酸碱介质及等离子体环境)等方面的综合性能要求;

2. 精密加工技术:由于先进陶瓷属于典型的硬脆难加工材料,而半导体设备对零部件尺寸精度及表面质量要求极为严格,加工工艺始终是制约陶瓷零部件在半导体领域应用的关键技术瓶颈; 

3. 表面处理工艺:鉴于半导体设备中陶瓷零部件通常处于晶圆加工的核心区域,部分组件甚至与晶圆直接接触,因此对表面金属离子浓度及微颗粒污染的控制标准异常严格,这使得加工后的表面处理技术成为决定陶瓷零部件适用性的核心要素之一。


二、主要陶瓷材料介绍

半导体设备用陶瓷材料主要包括氧化铝、氮化硅、氮化铝以及碳化硅等体系,其中精密陶瓷组件约占设备总价值的16%。各类半导体用先进陶瓷材料均具有独特的性能特征与特定的适用领域,以下将就主要材料体系及其应用进行详细阐述:

以氧化铝(Al₂O₃)、碳化硅(SiC)、氮化铝(AlN)等为代表的先进陶瓷材料,因其具备高硬度、卓越的耐磨性、优异的耐腐蚀性、低热膨胀系数以及高绝缘性等特性,能够完美适配半导体制造过程中的高温、强腐蚀及高精度环境需求。


具体应用优势体现在以下方面: 

 1、耐等离子体腐蚀性能:在刻蚀及化学气相沉积(CVD)设备中,陶瓷零部件(如聚焦环、腔体衬里等)需长期暴露于含氟或氯的高能等离子体环境中,而陶瓷材料的化学惰性使其在该领域的表现显著优于传统金属材料。 

 2、热稳定性:以碳化硅为例,其高热导率与低热膨胀系数的特性,使其成为光刻机工件台等对纳米级运动精度有严苛要求的部件的理想选择。 

 3、洁净度控制:陶瓷材料的低污染特性(如氧化铝真空吸盘)可有效避免晶圆加工过程中的金属颗粒污染,确保制程的纯净度。 

 

主要陶瓷材料及其典型应用 

 碳化硅(SiC) 

image.png


CVD碳化硅对含氯和含氟刻蚀气体的低反应性、导电性,使其成为等离子体刻蚀设备聚焦环等部件的理想材料。

根据QY Research数据,2022年全球CVD碳化硅零部件市场收入达到8.13亿美元,预计2028年将达到14.32亿美元,年复合增长率(CAGR)为10.61%。

 研磨盘:相较于传统金属研磨盘,碳化硅陶瓷研磨盘可显著降低晶圆表面损伤,同时提升研磨效率。 

 反应腔零部件:如立式舟、隔热挡板等,广泛应用于高温热处理设备(如氧化炉、快速退火设备等)。 

 光刻机部件:碳化硅工件台及陶瓷方镜凭借轻量化与高稳定性优势,被广泛应用于光刻机的精密运动系统。 

 刻蚀设备:聚焦环、气体喷淋头等需耐受等离子体腐蚀的关键部件。 



氧化铝(Al₂O₃)

image.png


刻蚀机防护:高纯氧化铝涂层或块体陶瓷用于刻蚀腔体内衬,显著延长设备使用寿命。 

静电吸盘(ESC):基于库仑力吸附晶圆,氧化铝凭借较高的性价比成为主流材料,但氮化铝(AlN)因更优的导热性能正逐步替代其部分应用。 

机械臂与喷嘴:用于晶圆搬运的陶瓷机械臂及等离子清洗设备的气体喷嘴,需满足高耐磨、耐腐蚀等严苛要求。 

 

氮化铝(AlN) 

image.png


高品质氮化铝粉体是获得高导热氮化铝陶瓷基板的先决条件,目前高端AlN粉体的制备技术基本被日本、美国、德国等发达国家垄断,并进行严格技术封锁,AlN粉体具有纯度高、粒度均匀性好、烧结性能好、收缩一致性好等优点,占据全球90%市场份额,尤其是日本德山、东洋铝业等行业巨头。

 静电吸盘:相较于氧化铝,氮化铝的高热导率可显著提升晶圆温度控制的精度,但受限于较高的成本,其应用仍集中于高端领域。 

 散热部件:作为高功率设备(如射频电源模块)的散热基板,充分发挥其优异的导热性能。 



氮化硅(Si₃N₄)

image.png

轴承与导轨:凭借高强度与耐热冲击性,广泛应用于光刻机及刻蚀机的精密运动系统。 


深圳方泰生产的特种结构陶瓷包括:氮化硅陶瓷,氮化铝陶瓷,氧化铝陶瓷,碳化硅陶瓷及多孔陶瓷,由高纯度陶瓷原料制成,经干压或冷等静压、高温烧结、精密加工成型,方泰制造的陶瓷结构件具有耐高温、耐腐蚀、耐磨、绝缘等诸多特点。


三、半导体陶瓷制品市场分析

国内企业(如方泰新等)虽在部分产品线上已接近国际水平,但在大尺寸、复杂结构部件领域仍依赖进口。半导体陶瓷作为半导体设备性能的核心保障材料,当前国产化进程仍面临技术壁垒与市场垄断的双重挑战。未来,需通过材料创新、工艺升级及产业链协同发展,逐步突破高端市场,实现关键材料的自主可控。


深圳方泰新材料技术有限公司,专注于高性能陶瓷材料的研发、制造、精密加工、应用方案,是先进陶瓷领域的制造商、供应商和方案提供商,对高性能陶瓷材料及加工工艺、装备的潜心研究和不懈努力,积累了丰富的生产实践经验。


摄影师拍照5_副本.jpg

上一条:5大类半导体陶瓷零部件详细介绍 | 下一条:没有了!
热门标签:精密陶瓷柱塞陶瓷吸盘多孔陶瓷吸盘碳化硅陶瓷吸盘陶瓷机械手臂陶瓷手指陶瓷吸附平台陶瓷气浮平台陶瓷末端执行器多孔质陶瓷真空吸盘

联系我们

服务热线
0755-27826396
深圳方泰新材料技术有限公司
地址:广东省深圳市宝安区新安街道海乐社区兴华一路北厂房3栋B4楼
备案编号:粤ICP备2023071030号-1